低壓真空硒化爐

 硒化爐     |      2019-07-22 19:23


一、設備簡介
真空硒化爐,又稱:低壓硒化爐、太陽能硒化爐等,主要用于薄膜太陽能電池的硒化處理、氮化硅鍍膜、陶瓷電容器(MLCC)氣氛燒結等工藝。本設備具有溫度均勻、控制穩定、溫區間溫度擾動小、升溫速度快等特點,是理想的科研設備。
 
二、主要技術參數(全部指標可定制)
1、外型形式:臺式,單片基片
2、加熱器形式:固定式加熱器
3、外形參考尺寸:1600*700*1200mm
4、爐膛材質:優質氣煉石英管
5、加熱元件:優質電阻絲
6、設計溫度:1000℃
7、雙恒溫區:硒源區:200mm,硒化區400mm(恒溫區內溫差±1℃)
8、控制溫區點數:石英管外4個測溫點,石英管內2個測溫點
9、控溫精度:±1℃
10、硒化恒溫區精度:±1℃;
11、硒源恒溫區精度:±2℃
12、溫控表:日本島電,32段可編程序
13、最大升溫速率:15℃/Min,升溫范圍:1-15℃/Min可調;
14、最大降溫速率:5℃/Min,降溫范圍:1-5℃/Min可調
15、溫控表:日本島電,32段可編程序
16、控制方式:移項觸發
17、真空系統 :分子泵+干泵
18、真空測量量程:1.0X10-5Pa—1.03X105Pa
19、氣路:兩路,浮子流量計控制氣體流量
20、電源:三相五線制,AC380V, 50Hz